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7奈米以下先進製程繼續採用多重曝影（multi-patterning）浸潤式（immersion）微影技術的成本太高，半導體大廠今年已正式確立將導入極紫外光（EUV）技術。繼英特爾重申將自7奈米製程世代開始採用EUV量產後，台積電、三星均開始評估在5奈米採用EUV技術生產邏輯晶片。
家登公告2月合併營收達1.40億元，較1月衰退24.2％，但與去年同期相較仍成長16.0％，改寫歷年同期新高，累計今年前2個月營收達3.26億元，較去年同期成長13.2％。家登表 示，在2月份工作日天數減少與春節連假下，仍交出亮眼的成績單，為團隊注入一劑強心針，估計今年營運表現首季淡季不淡，於第二季市場升溫後逐季向上成長。
工商時報【記者涂志豪╱台北報導】
除了英特爾及台積電已確立朝向EUV發展外，三星及SK海力士的記憶體製程今年亦開始大量利用EUV進行試產。隨著全球EUV產能在今年逐季拉升，極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應商家登（3680）已獲台美韓等國際大廠訂單，今年將逐季放量出貨。
根據微影設備大廠艾司摩爾（ASML）的說明，採用第三代EUV設備NXE:3300B客戶的每日EUV曝光晶圓產能已逾1,000 片，而採用第四代NXE:3350B客戶的每日曝光晶圓產能更超過1,250片。同時，所有客戶目前已安裝的EUV設備，每月曝光晶圓產能已超過1.5萬片，而ASML與客戶今年共同努力的目標是要每天超過1,500片。
對英特爾、台積電、三星等半導體廠來說，7奈米以下製程繼續採用浸潤式多重曝影技術已經不具成本效益，所以，7奈米及5奈米轉向採用EUV技術已是勢在必行。隨著EUV生態系統愈趨完整，每日及每月產量在今年明顯拉高，提供EUV Pod的家登直接受惠。
家登表示，身為半導體關鍵材料傳載技術的領導廠商，目前半導體技術仍持續往先進製程發展，但必須緊跟半導體產業中大者恆大的競爭態勢， 發展蛛網式策略夥伴關係，發揮綜效。近期EUV微影技術的進展受到高度關注，家登EUV Pod也持續緊跟國際大廠技術開發腳步，全力配合產業發展10/7奈米以下試產與量產時程，相信伴隨半導體技術推進，出貨將穩 健放量。
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家登公告2月合併營收達1.40億元，較1月衰退24.2％，但與去年同期相較仍成長16.0％，改寫歷年同期新高，累計今年前2個月營收達3.26億元，較去年同期成長13.2％。家登表 示，在2月份工作日天數減少與春節連假下，仍交出亮眼的成績單，為團隊注入一劑強心針，估計今年營運表現首季淡季不淡，於第二季市場升溫後逐季向上成長。
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